Sistim Sputtering Magnetron Inline
Inline magnetron sputtering mesin palapis utamana DC (atawa MF) magnetron sputtering palapis bisa diadaptasi kana rupa-rupa target, kayaning: tambaga, titanium, kromium, stainless steel, nikel jeung bahan logam lianna nu bisa coated maké prosés sputtering. bisa ngaronjatkeun adhesion pilem, reproducibility, dénsitas, uniformity sarta ciri séjén.
- a.Ciri dasar sareng parameter
- b.struktur garis horizontal bisa direalisasikeun sakaligus coated dina hiji sisi
- c.efisiensi produksi, laju panggancangna nepi ka 1 mnt / ketukan
- d.desain modular, pangropéa gampang
- e.kematangan prosés plating, ngahasilkeun tinggi
- f.DC magnetron sputtering cathodes bisa rupa-rupa gumantung kana sarat customer
- g.Sistem vakum diwangun ku pompa mékanis, pompa Akar, pompa difusi (pompa molekular) Komposisi
- h.Ukuran awak garis bisa rupa-rupa gumantung kana sarat customer
- 1) Bahan awak chamber vakum dipaké SUS304, polishing perlakuan témbok chamber vakum, témbok luar semprot polishing processing manik.
- 2) Ngagunakeun hiji klep Gerbang bebas antara chamber vakum - flapper klep eta, éféktif bisa neukteuk off, nyaimbangkeun gas prosés.Dina hadir parusahaan urang ngadopsi desain klep flapper, éta anjing laut hadé, leuwih awét batan klep flap umum domestik ayeuna.
- 3) Transmisi ngagunakeun pituduh magnét, ngajaga stabilitas drive.Pikeun unggal laju sakabéh garis produksi ngagunakeun VVVF motor drive, speed ngajalankeun bisa disaluyukeun.
- 4) Sistem Kontrol Listrik: Touch Screen sareng PLC kontrol otomatis, dialog manusa-mesin pikeun ngahontal sistem tampilan data, parameter operasi sareng téknologi kontrol
- 1) Tekanan vakum pamungkas: 6 × 1 0E-4 Pa
- 2) siklus produksi rata: nurutkeun produk ditangtukeun
- 3) The wadah substrat Ukuran: bisa ngaropéa nurutkeun sarat tina
- 4) uniformity Film: ± 3% téhnologi widang mobile canggih geus greatly ditingkatkeun utilization target
- Desain manaskeun segmented nyaeta kondusif pikeun optimasi prosés.
Tulis pesen anjeun di dieu sareng kirimkeun ka kami
